Substratkonforme Imprintlithographie funktionaler Materialien (SILFUMA)

Substratkonforme Imprintlithographie funktionaler Materialien (SILFUMA)

Ein großflächiges, substratkonformes Prägeverfahren auf Maskaligner-Basis soll mit neuen Lacksystemen als kostengünstige Nanostrukturierungstechnik für neue Anwendungsfelder geöffnet werden.

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