Simulation von Mask Aligner-Lithographieprozessen ermöglicht virtuelle Experimente für eine schnelle und kostengünstige Prozessentwicklung.

Simulation von Mask Aligner-Lithographieprozessen ermöglicht virtuelle Experimente für eine schnelle und kostengünstige Prozessentwicklung.

Im Fokus des Forschungsprojektes stand die Simulationssoftware Layout LAB als kommerziell erhältliche Plattform für die Lithographiesimulation von Mask Aligern. Sie gibt Bauelementeherstellern nun die Möglichkeit, Auflösungsgrenzen zu überschreiten.

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